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| English |
集積回路実験室では，薄膜回路製作実験，各種機能性薄膜の成膜及び分析または微細加工ができるような装置が導入され，学生実験・卒業研究・教官研究・学外との共同研究などに利用されています。
薄膜成膜の主要装置として高周波マグネトロンスパッタリング装置
・プラズマCVD装置，分析装置として走査型電子顕微鏡 ・エネルギー分散型X線分析装置 ・プラズマ発光分析装置
・表面形状測定装置，微細加工装置として電子線描画装置があります。 |
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走査型電子顕微鏡
エネルギー分散型X線分析装置 |
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電子線描画装置 |
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| 集積回路実験室の発足 |
| 昭和６２年頃の学生実験風景 |
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| 集積回路の製作（プラズマCVD装置を操作） |
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| 集積回路実験室は，昭和５６年に，故田中哲郎校長（高専 第二代校長）の「社会が求めている半導体技術者の養成と半導体技術の研究に答えよう」との構想のもとに，新営中だった第二学科（情報工学科）棟の１階に造られました。 |
| 当時，実験室全体が塵の非常に少ないクリーンルームになっており，集積回路の製造実験，半導体物性の実験，水晶フィルターの製作実験等が行われていました。 |
| 実 験 装 置 |
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| プラズマCVD装置 |
プラズマ リアクター |
スパッタ装置 |
エリプソメータ |
マスクアライナー |
電気炉 |
